在所有应用产业中,半导体产业对靶材溅射薄膜的品质要求是苛刻的。如今12英寸(300衄口)的硅晶片已制造出来.而互连线的宽度却在减小。但热压法生产的ITO靶材由于缺氧率高,氧含量分布不均匀,从而影响了生产ITO薄膜的均匀性,且不能生产大尺寸的靶。硅片制造商对靶材的要求是大尺寸、高纯度、低偏析和细晶粒,这就要求所制造的靶材具有更好的微观结构。靶材的结晶粒子直径和均匀性已被认为是影响薄膜沉积率的关键因素。另外,薄膜的纯度与靶材的纯度关系极大,过99.995%(4N5)纯度的铜靶,或许能够满足半导体厂商0.35pm工艺的需求,但是却无法满足如今0.25um的工艺要求。
任何金属都不能达到纯。“超纯”具有相对的含义,是指技术上达到的标准。
由于技术的发展,也常使 “超纯”的标准升级。“超纯”的相对名词是指“杂质”,广义的杂质是指化学杂质(元素)及“物理杂质”(晶体缺陷),后者是指位错及空位等,而化学杂质是指基体以外的原子以代位或填隙等形式掺入。
但只当金属纯度达到很高的标准时(如纯度9以上的金属),物理杂质的概念才是有意义的,因此目前工业生产的金属仍是以化学杂质的含量作为标准,即以金属中杂质总含量为百万分之几表示。
人类社会的存在,科学技术的进步和发展,已成为21世纪世界各国首要的战略储备物资,且与各国的政治经济和社会发展有着息息相关的紧密联系,在已知的传统产业和应用领域中,高纯材料、合金、各种深加工的制品(半成品)及化学制品,已被广泛应用到冶金钢铁,石油化工,有机化工,化工,电子电器,汽车制造,光学玻璃,玻璃纤维。纳米、(nm)纳米技术、纳米材料是当代科技领域中的热门名词,已经成为现实和潜在的巨大的应用前景的纳米银线,已在山东、浙江、北京等地进入人们的视野,并进入国际市场,如果按照银的当前价7元/克计算的话,纳米银线的价格将是银价的350倍以上。
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